真空非自耗電弧熔煉爐

設(shè)備原理

真空非自耗電弧熔煉爐適用于科研新材料開發(fā)。

電弧熔煉是利用電能在電極與電極或電極與被熔煉物料之間產(chǎn)生電弧來熔煉金屬的電熱冶金方法。電弧可以用直流電產(chǎn)生，也可以用交流電產(chǎn)生。當使用交流電時，兩電極之間會出現(xiàn)瞬間的零電壓。在真空熔煉的情況下，由于兩電極之間氣體密度很小，容易導致電弧熄滅，所以真空電弧熔煉一般都采用直流電源。它主要用來熔煉鈦、鋯、鉬、鉭、鈮等活潑和高熔點金屬以及它們的合金，也用來熔煉耐熱鋼、不銹鋼、工具鋼、軸承鋼等合金鋼。經(jīng)熔煉出來的金屬，其氣體和易揮發(fā)雜質(zhì)含量下降，鑄錠一般不會出現(xiàn)中心疏松，錠子結(jié)晶較均勻，金屬性能得到改善。氣氛下的最高溫度是3500攝氏度。

如有需要，可實現(xiàn)爐內(nèi)樣品真空吸鑄功能和磁攪拌功能，熔煉過程中可手動控制機械手攪拌爐料。

技術(shù)參數(shù)

1、真空腔體結(jié)構(gòu)：圓筒形前開門結(jié)構(gòu)

2、真空室尺寸：φ400X450mm

3、極限真空度：≤5——5*10E-4Pa

4、占地面積（長x寬x高）：約2米x1.2米x2.2米

5、操作方式：模擬屏手動

特色參數(shù)

標準共有5個工位（可定制其他工位），1個熔煉合金工位500克（以鐵計）（帶電磁攪拌），2個熔煉合金工位200克（以鐵計）（帶電磁攪拌），1吸鑄工位100克（以鐵計），1熔煉除氣工位100克（以鐵計）；

真空非自耗電弧熔煉爐技術(shù)優(yōu)勢

1、桌面式設(shè)計，貼合實驗室應(yīng)用需求；

2、可在多種氣氛條件下熔煉；

3、熔煉高熔點金屬/合金；

4、升溫迅速；

5、可實現(xiàn)爐內(nèi)樣品真空吸鑄；

6、上電極可360度自由旋轉(zhuǎn)；

7、可同時熔煉多個樣品；

典型應(yīng)用：

廣泛應(yīng)用于高純金屬，難溶金屬，半導體材料及放射性材料的冶煉及稀土材料的熔煉。