TXF1000真空磁懸浮熔煉爐

TXF1000真空磁懸浮熔煉爐原理

真空懸浮熔煉爐的主要原理是通過高頻或中頻交變磁場，在金屬熔煉中形成與重力相抵消的電磁力，使熔體懸浮，與坩堝內(nèi)壁脫離方法是一項集電磁學(xué)、流體學(xué)、熱力學(xué)、力學(xué)、物理化學(xué)及冶金等多學(xué)科于一體的綜合冶金技術(shù)。

在真空或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料進(jìn)行熔煉處理，利用電磁力使?fàn)t料半懸浮，熔池與坩堝壁保持非接觸，使?fàn)t料不受坩堝材料的污染。小型真空懸浮熔煉設(shè)備能夠有效地用于活潑金屬、高熔點(diǎn)金屬及其合金的熔煉，配有真空泵系統(tǒng)，用于在加熱前抽出爐膛內(nèi)的氧氣，為了保證盡可能低的氧含量，使?fàn)t膛內(nèi)有純凈的氣氛或者真空環(huán)境；氣氛下的溫度可達(dá)2200攝氏度。

TXF1000真空磁懸浮熔煉爐的優(yōu)勢

1、緊湊設(shè)計貼合實驗室應(yīng)用需求

2、可在多種氣氛條件下熔煉

3、升溫迅速

4、排除坩堝對熔煉材料的污染

5、 熔煉后合金成分均勻

6、熔煉后樣品純度高

7、 可鍋底成型與旋轉(zhuǎn)澆鑄兩種鑄造形式

典型應(yīng)用

1、材料科研工作

2、活潑金屬和合金的制備

3、對純度要求特別高的金屬和合金的制備

4、對成分精度要求特別高的合金和金屬間化合物的制備

5、熔點(diǎn)接近和超過2000℃的難溶金屬和合金及貴金屬和合金的制備

6、對材料純度、成分精確性和均勻性要求高，期望排除雜質(zhì)和其他